拉普拉斯 688726

拉普拉斯新能源科技股份有限公司
上市日期--
股票年龄--
市场上海
70.27元
成交量 2859.46万
5日均价 62.92元
2026-05-07

📈 日K线 + 技术指标 (BOLL/MACD/KDJ)

📊 核心指标

总市值
284.59亿
流通市值
154.59亿
市盈率(PE)
234.23
市盈率极高,股价相对盈利非常昂贵
市净率(PB)
6.76
市净率较高,需警惕资产泡沫
上市以来涨幅
3.48%
每股收益(元)
0.3
每股收益一般,盈利能力有待提升
每股净资产(元)
10.39
每股净资产非常厚实,具备较强资产支撑
每股现金流(元)
-0.06
每股现金流为负,经营现金短缺

🏢 公司基本面

申万行业
板块
科创板
英文名称
Laplace Renewable Energy Technology Co., Ltd.
地区/省份/城市
-- / 广东省 / --
所属行业
--
总股本
4.05亿
流通股本
2.20亿
注册地址
广东省深圳市坪山区坑梓街道砾田路2号开沃大厦A栋20层
主营业务
新型高效光伏电池片和半导体分立器件制造所需高性能热制程、镀膜及配套自动化设备的研发、生产与销售。
产品名称
硼扩散、磷扩散、氧化及退火设备、低压化学气相沉积(LPCVD)设备、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、原子层边缘钝化沉积(EPD)设备、电池间隙贴膜机、激光设备
净利润
1.20亿元
营业收入
9.68亿元
经营范围
新能源、储能、光伏、半导体和航空航天所需先进材料、高端装备,以及配套自动化和配件的研发、制造,销售和租赁(不配备操作人员的机械设备租赁,不包括金融租赁活动);分布式光伏发电开发和利用。与上述先进材料,高端装备,分布式发电系统和太阳能产品相关的技术咨询,技术开发,技术服务,技术转让以及合同能源管理;机电设备的销售、安装、维修;销售太阳能光伏产品及配件;国内贸易(不含专营、专卖、专控商品);经营进出口业务。(以上各项涉及法律、行政法规、国务院决定禁止的项目除外,限制的项目须取得许可后方可经营);劳务服务(不含劳务派遣);租赁服务(不含许可类租赁服务)。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开...

📍 公司位置 & 概念标签

广东省深圳市坪山区坑梓街道砾田路2号开沃大厦A栋20层

🏷️ 所属概念 (8)

       根据公司招股说明书:公司在新型高效光伏电池片核心工艺设备领域具有技术先发优势和批 量交付优势,在 PERC 技术逐步向新一代电池片迭代过程中,公司核心工艺设备完成了下游多个主流客户的覆盖,并在产线中占据重要的地位和价值。公司为客户提供核心工艺设备的产线中,覆盖了 TOPCon、ABC、 HPBC 多种新型高效光伏电池片技术路线。
       据招股说明书:公司凭借其在高效光伏电池片核心工艺设备领域的持续专注和技术积累,结合前期客户验证成果,完成了产品的进一步迭代。在该阶段,公司核心工艺设备协助晶科能源先后4次创造N型TOPCon电池转换效率世界纪录;协助隆基绿能先后分别2次创造N型TOPCon和2次创造P型TOPCon电池转换效率世界纪录。
       2024年11月28日公告,公司将凭借自身的技术积累,积极布局HJT、钙钛矿以及叠层电池等不同技术所需的核心工艺设备,公司在研项目包含“钙钛矿核心真空工艺设备的研发”项目、“新一代高效晶体硅电池产业化制备的核心CVD工艺设备研发”项目、“磁控溅射物理气相沉积平台开发”项目等。
       拉普拉斯新能源科技股份有限公司主营业务是光伏电池片制造所需高性能热制程、镀膜及配套自动化设备的研发、生产与销售。主要产品是光伏电池片设备、半导体分立器件设备、配套核心零部件。
       根据公司招股说明书,在具体产品方面,公司持续对高温氧化设备和高温退火设备进行开发与优化,可适用于SiC基半导体器件生产工艺;公司LPCVD设备可满足氮化硅/氧化硅/多晶硅(Poly-Si)/非晶硅(α-Si)薄膜沉积技术的应用需求,并适用于半导体分立器件的生产。
       专精特新“小巨人”企业是全国中小企业评定工作中最高等级、最具权威的荣誉称号,是指专注于细分市场、创新能力强、市场占有率高、掌握关键核心技术、质量效益优的排头兵企业,对于提升中小企业自身的竞争力,以及提升产业链、供应链稳定性和竞争力具有重大意义。公司已入选工信部国家级专精特新小巨人企业名单。
       2024年12月25日互动易:公司在半导体分立器件领域聚焦第三代半导体碳化硅设备,通过产品技术支持产业的发展。目前形成了氧化、退火、镀膜和钎焊炉设备等一系列产品,并开始逐步导入到下游行业内领先企业。在具体产品方面,公司持续对高温氧化设备和高温退火设备进行开发与优化,可适用于SiC基半导体器件生产工艺;公司LPCVD设备可满足氮化硅/氧化硅/多晶硅(Poly-Si)/非晶硅(α-Si)薄膜沉积技术的应用需求,并适用于半导体分立器件的生产。
       拉普拉斯首次公开发行股票并在科创板上市招股意向书附录:在半导体设备领域。公司顺应国内以第三代半导体为代表的半导体分立器件发展浪潮,研制开发出可应用于相应领域的氧化、退火、镀膜及封装等设备,目前已经完成对比亚迪、基本半导体等下游客户的导入,并取得批量订单,实现国产替代。

📌 题材要点 (0)

暂无题材要点数据

📈 历史之最

历史最高价
100 (2024-10-29)
历史最低价
34.1 (2025-04-09)
最大单日振幅
24.45% (2024-10-31)
历史天量
4868.48万 (2026-01-26)
历史地量
61.78万 (2025-04-25)
涨停/跌停次数
1 / 1

📋 全部历史涨跌停明细(共 2 条)

日期收盘价涨跌幅类型
2026-01-2355.5420.01% 涨停
2025-04-0734.78-19.99% 跌停

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